溶射プロセスで選ぶ

高速フレーム溶射高速フレームスプレイ=HVOF: High Velocity Oxy-Fuel Spraying

特徴

  • 溶射粒子の飛行速度が450〜600m/secと極めて高速で、プラズマ溶射と比較して2倍以上の速さです。
  • 高速で粒子が衝突するため緻密な皮膜が得られます。
  • 炭化物の優れた特性を損なうことなく成膜することができます。
高速フレーム溶射

高圧の酸素と燃料を燃焼させることによって生じる高温で高速のフレームに、粉末溶射材料を投入する溶射方法です。高速のフレームで加熱・加速された粉末粒子が高速で基材に衝突するため、緻密で密着力の強い皮膜が形成されます。

高速フレーム溶射 原理図

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