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ローカイド溶射(ローカイド・ロッド・スプレイ®= Rokide Rod Spraying®)

NCIは、1960年日本で最初にローカイド溶射を手掛けて以来、常に施工実績No.1を維持しながらローカイド溶射技術を極めてまいりました。 ローカイド溶射こそセラミック溶射の基幹技術であり、セラミック溶射分野発展の大きな牽引力となりました

溶融熱源に酸素−アセチレン炎を使用し、棒状に焼結加工された溶射材料を利用する方式です。 溶融温度は、約3000℃。完全に溶融された粒子だけを、エアジェット流で加速・噴射します。

装置の自由度が高く、複雑な形状の母材にピンスポットで溶射できる利点があります。

ローカイド・ロッド・スプレイ®、Rokide Rod Spraying®はSAINNT-GOBAIN社の登録商標です。


ローカイド溶射 原理図

特 徴

  • 完全に溶融されたセラミック粒子だけが噴射されるため、粒子間結合力の高い皮膜が得られます。
  • 溶融温度がプラズマ溶射法よりも低温ですから、母材への熱影響がより少なくて済みます。

代表的な施工例

ミューロケット・メインブースターノズル

<ミューロケット・メインブースターノズル>

・ 耐熱性、断熱性の強化

ショックダイヤモンド

完全溶融粒子がショックダイヤモンドに乗ってコーティングされます。


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